方程没在这个问题上继续说一下，而是道：\"我将大体的思路跟大家说一下，然后我们再一起讨论。
现在西方光刻机光源主要应用的激光等离子体技术，这个我就不多说了。主要讲讲放电等离子体技术。\"
方程坐在那里开始了他的介绍。
放电等离子体技术，其实就是通过快脉冲、大电流对介质放电，然后形成高温高密度等离子体，从而实现极紫外辐射光自发辐射输出。
而根据放电方式的不同，放电等离子体技术又分为等离子体焦点技术、中空阴极管放电技术、毛细管放电等离子体技术、激光辅助放电等离子体技术。
激光辅助放电等离子体机制极紫外光刻光源，用锡做为工作介质，用纳秒激光与锡相互作用在正负电极之间产生锡的初始等离子体，形成放电通道…
方程大概讲了一遍后，继续道：\"国外在几年前也有过此类的研究，相信大家也有耳闻。
虽然放电等离子体技术有诸多优点，比如光源结构简单，投资运营成本低，适合大规模工业应用等。但它的缺点同样很多。
比如说，碎屑控制、重复频率、放电条件下光源稳定性、增大光源输出角等问题。\"
在座的众人纷纷点头。这也是他们过来参观方程式有限公司的主要原因。
\"我们公司根据其缺点，逐一进行了解决！\"
此言一出，会议室内顿时一片倒吸冷气声！
如果真如方程所说，这些问题都解决的话，那可以说，国外那所谓的封锁，在以后就只是个笑话而已。
毕竟相比阿麦斯的光刻机来说，其光源上面临的困难也是很多的。
他们之所以放弃激光辅助放电等离子体技术，就是因为这些难题一直得不到解决。
大家连忙屏气凝神，静待方程的讲解。
\"先来说一下关于碎屑的控制问题。大家都知道碎屑的产生是因为激光轰击锡物料所产生的。
这种碎屑一旦沉积在反射镜表面，就会影响到极紫外光的输出功率，从而影响光刻效率，降低光刻机的使用寿命。
有研究机构提出，可以利用加磁场来降低离子动能。但这只对带电离子有效。
也有提出充加缓冲气体，来增加原子和离子的阻力。效果有吗？有，可是不大。\"
众人听了纷纷点头。
\"我们另辟蹊径，采用了一种全新的技术理论，浮游离子吸附加力引导！
通过这种技术，可以有效地降低碎屑的单位密度，从而做到对碎屑有效控制。\"
方程说完，继续道：\"我们再来讲一下关于重复频率的问题…\"
\"等等。\"一名老者举手示意道：\"方总，你能不能将这个浮游离子吸附加力引导，详细地讲一下？\"
方程看了看大家希翼的神情，无奈地说道：\"大家的想法我知道。可是这是我们公司的机密技术，在这里实在不方便过多透露。\"
有人马上问道：\"方总，你的意思是说这项技术你们没有申请专利吗？\"
方程点了点头道：\"没有。大家都知道申请专利，是需要将技术完全展示的。
在我们还不具备制作出完整光刻机以前，这项技术我们是不会申请专利的。
希望大家能够理解。\"
方程向大家表达了一下歉意后，继续讲起了后面的各种问题。