当前位置:新笔趣阁>都市小说>从学霸到首席院士> 第21章 科研课题分支
阅读设置(推荐配合 快捷键[F11] 进入全屏沉浸式阅读)

设置X

第21章 科研课题分支(1 / 2)

“极紫外光刻机?”

当万荥看到自己眼前飘过去的文字时,本来还有些睡意的他,精神一下子就来了。

对于夏国来说,光刻机技术一直是自己的痛点。

夏国虽然在这个领域投入了相当大的人力物力,但由于国外的先发优势,使得夏国的光刻机技术一直没有能赶超到世界领先水平。

正因为如此,最近几年不管是专家教授还是普通人,提起光刻机都是只能默默的摇摇头。

而对于世界芯片领域的关注度,也在夏国内逐渐火热了起来。

更重要的是,相比于外骨骼装甲,光刻机技术对于整个夏国来说才是更为迫切,也更为需要的。

毕竟在大多数领域,外骨骼装甲还是无法进行应用,而光刻机所生产的芯片,却深入了千家万户。

无论是手机、电视,还是电脑、汽车,甚至是一些玩具、手环、自动刷牙器,都全面的普及了芯片。

所以芯片领域对于真个夏国来说,才是重中之重。

“一百条评论就直接把光刻机技术炸出拉了。”

万荥自己都没有想到,仅仅只是一个100评论的抽奖,就抽出了如此重要点‘极紫外光刻机’技术。

要知道‘极紫外光刻机’技术在蓝星可谓是最为先进的一种光刻机技术,相比于前代的‘深紫外光刻机’技术,它对芯片工艺的制造产生了革命性的影响。

相较于‘深紫外光刻机’DUV,‘极紫外光刻机’EUV在使用的光源上就有了重大的改变。

DUV的光源为准分子激光,而EUV这位是由激光激发等离子来发射EUV光子。

这样一来,EUV的波长达到了惊人的13.5纳米,远远超出了DUV的193纳米。

有了如此惊人的差距后,两代光刻机所能作用的范围也就显而易见的不在一个时代了。

DUV光刻机在制造7纳米芯片的时候,成本已经飞速飙升,良品率也变得难以控制。

而EUV则不同,由于其性能更加的优越。EUV的工作范围不仅能超越7纳米,甚至能达到极限的1纳米。

由于硅基芯片的限制,芯片在达到1纳米之后,就会受到量子隧穿效应的影响,使得电子失控,从而最终让芯片失效。

当然,蓝星的芯片领域想要进军到1纳米,按照常理来讲最少也还需要6年的时间。所以在这期间,极紫外光刻机技术依旧是蓝星芯片领域的巅峰。

“还是全套?”

当万荥的视野左上角出现了一个跳动的‘极紫外光刻机’几个大字的时候,他也将注意力放到了上面,从而得到了一段关于这个最新技术的注释。

【您获得了‘极紫外光刻机’研究课题,您可以在本课题中选择分支研究方向。】

【当选择的分支完成后,可以进行下一个分支的研究。】

【在所有分支科技达成后,您将被附赠芯片制程全套工艺。】

【可选择分支:‘光学镜头’‘光学光源’‘双工作台’‘硅片’......】

上一章 目录 +书签 下一页

>